時間:2008-11-20 17:03:00來源:dujing


圖 2. 圖3. ESD 預測單元 [/align]
從圖3.看, ESD故障預測單元是和用戶的主電路在同一芯片器件里, 和主電路處在相同的環(huán)境下,環(huán)境包括過高壓、 過低壓、 瞬時毛刺、濕度、惡劣的溫度及輻射。 因此ESD單元能夠預測主電路的使用壽命,給出預測報警點,但是它需要占用額外的芯片管腳。
3.2 熱載流子(HC)的故障預測
熱載流子容易在N溝道MOS管靠近漏極處在二氧化硅或硅處形成負電荷陷阱. 熱載流子效應是MOS管的一個重要失效機理,是大家所不希望的. 熱載流子容易導致MOS管的Vt增加和Id減小.示意圖4和圖5.

圖6 HC單元示意圖 圖7. HC單元應用圖 [/align]
如圖7.HC單元與主電路被放在一起,與主電路一樣受相同的外界應力影響,這些外界應力決定著芯片的壽命。當主電路在測試方式下,這個單元將觸發(fā),進入到預定的、連續(xù)的應力和測試循環(huán),最終給出電路真正的壽命。
TDDB效應的故障預測
TDDB效應是由小幾何體, 多溝道,薄柵氧化層, NMOS 襯底注入引起的, 它容易造成噪聲增加,功耗增加,MOS管器件電參數(shù)不穩(wěn)定,如:闌值電壓漂移、跨導下降和漏電流增加等,甚至可引起MOS管失效。Ridgetop-Group TDDB 故障預測單元是利用和主電路在一起的利用JTAG 技術(shù)的TDDB物理單元加HALT 測試方法來實現(xiàn)的。
NBTI效應的故障預測
NBTI效應主要130納米及以下工藝中。當柵源的電壓是負電壓,PMOS 容易發(fā)生NBTI效應。在氧化硅和硅的界面處,負偏壓和/或溫度容易造成正阱,造成Vt 增加和Id的減少。造成電性的間歇性和失效, 導致芯片可靠性和壽命降低。Ridgetop-Group TDDB 故障預測單元是利用和主電路在一起的NBTI物理單元來實現(xiàn)的。
對于在半導體中的金屬遷移和輻射等效應,它們都在影響半導體壽命,有同樣類似的單元來對金屬遷移和輻射效應等進行預測,只是它們針對不同的目的,不同的問題。這些單元與客戶的主電路隔離開,互不干擾,但它們實現(xiàn)了芯片內(nèi)部的自檢測試(BIST),達到要檢測的目的。對于這些效應的預測,請查閱Ridgetop Group 工作網(wǎng)站。
4 總結(jié)
故障預測技術(shù)是可以應用在半導體設計中的,隨著最終用戶的要求越來越高,也要求芯片性能越來越高,如果能夠預測芯片的壽命,使系統(tǒng)維修和芯片的替換變得更容易、更簡單。上述這些半導體效應是不能避免的,但是它們是可以預知的, 因此故障預測技術(shù)可以應用在半導體設計領(lǐng)域,將故障預測范圍縮小到芯片級,避免重大惡性事故發(fā)生。
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